Clarité peel off maska pro obnovu fyziologické rovnováhy VZOREK 15g
Hloubkově čisticí peel-off maska pro mastnou, aknózní, seboreickou a problematickou pleť.
Obsah: VZOREK 15g
| Kategorie: | Vzorky, vybavení, pomůcky MESMERIE |
|---|
Tato peel-off maska je určena pro pleť, která se potýká s nadbytkem mazu, nečistotami a častým vznikem komedonů či zánětlivých projevů. Mastná, aknózní nebo seboreická pleť často vyžaduje kombinaci absorpce, hloubkového čištění a zklidnění — přesně to tato maska nabízí.
Aktivní uhlí působí jako magnet na nečistoty, toxiny a maz v pórech. Kaolin a zeolit zajišťují účinnou absorpci a pomáhají regulovat kožní maz, čímž podporují jasnější a čistší strukturu pleti. Ženšen svými tonizačními a antioxidačními vlastnostmi napomáhá zklidnění a harmonizaci problematické pleti. Algináty umožňují vytvořit komfortní peel-off texturu, která při snímání pomáhá odstranit povrchové nečistoty a zanechá pleť svěží a sjednocenou.
Výsledkem je pleť, která působí čistěji, vyrovnaněji, s matnějším finišem a menší viditelností ucpaných pórů. Ideální doplněk profesionální péče o problematickou pleť.
Obsah: VZOREK 15g
Diskuze
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
.png)